Sasaran Pusingan Titanium

Sasaran salutan ialah sumber sputtering yang terpercik ke substrat untuk membentuk filem berfungsi dengan sputtering magnetron atau sistem salutan lain di bawah keadaan proses yang sesuai. Maksudnya, bahan sasaran adalah bahan sasaran pengeboman zarah tenaga cas berkelajuan tinggi, digunakan dalam senjata laser tenaga tinggi, ketumpatan kuasa yang berbeza, bentuk gelombang keluaran yang berbeza, panjang gelombang laser yang berbeza, dan interaksi bahan sasaran yang berbeza, akan menghasilkan kesan pembunuhan dan kerosakan yang berbeza.

Pembuatan sasaran sputtering titanium termasuk penyediaan serbuk bahan mentah, pemanasan awal, penekanan panas, pemprosesan dan rawatan permukaan. Penyediaan bahan mentah adalah kunci untuk memastikan kualiti sasaran sputtering titanium. Pemanasan awal dan penekanan panas adalah langkah proses penting untuk pembuatan sasaran sputtering titanium, yang melaluinya bahan seragam dan padat diperoleh untuk memastikan sifat fizikal dan sifat kimia sasaran. Pemprosesan termasuk memotong, membentuk, dan menggilap. Rawatan permukaan termasuk pembersihan, pasif, pembungkusan, dsb.

Dilengkapi dengan proses lanjutan, yang mempunyai perkhidmatan yang lebih lama. disebabkan prestasinya yang tinggi, sasaran bulat titanium memainkan peranan penting dalam peranti pemisah semikonduktor, paparan panel rata, filem elektrod penyimpanan, salutan bahan kerja, industri salutan kaca, dsb.

Sasaran bulat titanium mempunyai pelbagai kegunaan kerana jurang jalur yang luas, pemalar dielektrik yang rendah dan kestabilan suhu. Filem nipis terutamanya disediakan oleh magnetron sputtering, di mana bahan sasaran adalah bahan mentah asas yang penting dalam proses salutan sputtering. Dilengkapi dengan teknologi penyemburan plasma yang sangat baik dan supersonik, ia mempunyai suhu sumber haba yang tinggi dan suasana udara lengai. Jarak semburan adalah kecil. Zarah-zarah terbang dalam jet plasma pada kelajuan tinggi, kurang berkemungkinan teroksida dalam medium, dengan kelebihan untuk menyembur serbuk titanium yang mudah teroksida.

Takat lebur tinggi: takat lebur titanium ialah 1668 darjah, jadi sasaran titanium mempunyai prestasi suhu tinggi yang sangat baik.

Rintangan kakisan yang baik: titanium mempunyai rintangan kakisan yang baik, dan boleh menahan kakisan asid, alkali, dan bahan kimia lain, jadi ia boleh digunakan dalam penyaduran elektrik, elektrolisis, salutan vakum, dan industri lain.

Kestabilan yang baik: titanium lebih stabil secara kimia dan boleh mengekalkan prestasi yang stabil dalam suhu tinggi, tekanan tinggi, dan persekitaran gas lengai, jadi ia boleh digunakan untuk menyediakan beberapa bahan di bawah suhu tinggi, tekanan tinggi dan gas lengai.

Kekonduksian elektrik yang baik: sasaran titanium adalah konduktor elektrik yang baik, jadi ia boleh digunakan untuk menyediakan komponen elektronik, sel fotovoltaik, peranti mikroelektronik, dll. Aplikasi: Pemisahan semikonduktor, bahan salutan filem, Salutan Elektrod Penyimpanan, Salutan sputtering, salutan permukaan, cermin mata , elektronik, optoelektronik, teknologi maklumat, kimia, perubatan dan aeroangkasa.

Cool tags: sasaran pusingan titanium, pengeluar sasaran pusingan titanium China, pembekal, kilang, Titanium Aluminum Aluminum Alloy စျေးနှုန်း, Titanium Alloy Screws, Titanium Alloy စွဲစေ, Titanium Alloy ပစ္စည်း, titanium an fittings, 1 Titanium ဘား