Sasaran Sputtering Titanium Ketulenan Tinggi
Item: Sasaran Sputtering Titanium Ketulenan Tinggi
Bahan: titanium ketulenan tinggi
Dimensi: Dia63 x37mm, Dia100 x40mm
Aplikasi: PVD, Coting, Semiconductor.
Kata kunci: sasaran sputtering untuk PVD
Teknik: Menempa, Mengisar.
Ketulenan: melebihi 99.95%
Syarat Pembayaran: T/T pada pandangan, L/C.
Piawaian: ISO 9001:2015, EN10204 3.1, MTC/EN10204 3.2
pengenalan produk
Penerangan
Sasaran sputtering titanium ketulenan tinggi digunakan terutamanya dalam industri elektronik dan maklumat, seperti litar bersepadu, penyimpanan maklumat, paparan kristal cecair, kenangan laser, peranti kawalan elektronik, dan lain-lain, ia juga boleh digunakan dalam bahan tahan haus, tinggi suhu, dan rintangan kakisan, Bekalan hiasan mewah dan industri lain.
ciri-ciri
Dilengkapi dengan salutan sputtering magnetron termaju, yang menggunakan sistem senapang elektron untuk memancarkan dan memfokuskan elektron pada bahan yang disadur supaya atom yang terbantut mengikut prinsip penukaran momentum dan terlepas daripada bahan dengan tenaga kinetik yang lebih tinggi. Berbanding dengan produk di pasaran, sasaran sputtering ketulenan tinggi kami menggunakan teknologi sputtering untuk bahan filem nipis. Ia menggunakan ion yang dihasilkan oleh sumber untuk mempercepatkan kepekatan dalam vakum untuk membentuk rasuk ion tenaga berkelajuan tinggi, yang mengebom permukaan pepejal, dan ion menukar tenaga kinetik dengan atom permukaan pepejal.
|
Nama barang |
Ketulenan titanium: 99.999% |
|
Kesucian |
99.99%~99.995% |
|
bentuk |
Bulat atau disesuaikan mengikut permintaan anda |
|
Saiz yang ada |
1. Diameter bulat: 30-2000mm, ketebalan: 3.0mm-300mm 2. Plat: Panjang: 200-500mm Lebar:100-230mm Tebal: 3-40mm 3. Disesuaikan tersedia |
|
piawaian TQC |
ISO9001:2008, SGS, Laporan pihak ketiga |
|
Pemproses |
Dipalsukan dan Dimesin CNC |
|
Permukaan |
Memusing permukaan. |
|
Aplikasi |
|
|
Permohonan |
Penyaduran elektro, kejuruteraan kimia & teknologi petrokimia, industri perubatan, pengasingan semikonduktor, bahan salutan filem, salutan elektrod penyimpanan, salutan sputtering, salutan permukaan dan industri salutan cermin mata. Aeroangkasa (enjin jet, peluru berpandu, dan kapal angkasa), ketenteraan, kimia dan produk petroleum, penyahgaraman dan industri kertas, automotif, makanan pertanian, perubatan (anggota prostetik, implan ortopedik, dan instrumen dan pengisi pergigian), peralatan sukan, perhiasan, dan sel telefon, dsb.
|
Komponen kimia
|
item |
N |
C |
H |
Fe |
O |
Mo |
Ni |
Sisa unsur |
Maks Jumlah |
|
Gr1 |
0.03 |
0.08 |
0.015 |
0.2 |
0.18 |
/ |
/ |
0.1 |
0.4 |
|
Gr2 |
0.03 |
0.08 |
0.015 |
0.3 |
0.25 |
/ |
/ |
0.1 |
0.4 |
|
Gr7 |
0.03 |
0.08 |
0.015 |
0.3 |
0.25 |
/ |
/ |
0.1 |
0.4 |
|
Gr12 |
0.03 |
0.08 |
0.015 |
0.3 |
0.25 |
0.2-0.4 |
0.6-0.9 |
0.1 |
0.4 |
ciri-ciri
Ketulenan: ketulenan adalah salah satu indeks prestasi utama bahan sasaran kerana ketulenan bahan sasaran mempunyai pengaruh yang besar terhadap prestasi filem.
Dalam amalan, bagaimanapun, juga mempunyai keperluan yang berbeza untuk ketulenan bahan sasaran.
Kandungan kekotoran: kekotoran pepejal dalam bahan sasaran dan keliangan oksigen dan lembapan adalah sumber utama filem pemendapan. Penggunaan sasaran yang berbeza mempunyai keperluan yang berbeza untuk kandungan kekotoran, contohnya, dalam industri semikonduktor aluminium tulen dan bahan aloi aluminium, kandungan logam alkali dan kandungan unsur radioaktif mempunyai keperluan khas.
Lebih tinggi ketulenan sasaran, lebih baik prestasi filem itu. Sasaran sputtering titanium ketulenan tinggi kami boleh memenuhi ketulenan 99.995%.
Menguji
DT: Ujian merosakkan, ujian sifat fizikal, ujian kekerasan, ujian komposisi kimia.
NDT: Ujian tidak merosakkan, ujian ultrasonik, ujian penembusan, ujian penampilan.
Cool tags: sasaran sputtering titanium ketulenan tinggi, pengeluar sasaran sputtering titanium ketulen tinggi China, pembekal, kilang, Titanium Alloy စွဲစေ, Titanium Allen Bolts, ရောင်းရန်တိုက်တေနီယမ်အရက်ဆိုင်, tial6v4, Titanium Vanadium Allot, Titanium Aluminum Vanadium Alloy
Anda mungkin juga berminat
Hantar pertanyaan
